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机译:隧道氧化物氮化对纳米CT NVM阈值电压不稳定性机制影响的研究
Faculty of Engineering, Multimedia University, Persiaran Multimedia, Cyberjaya 63100, Selangor, Malaysia;
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Charge loss mechanisms; Charge trapping dynamics; Nanoscale charge trapping non-volatile; memory; Tunnel oxide nitridation; Threshold voltage instability;
机译:应变对纳米级双栅隧道场效应晶体管漏极电流和阈值电压的影响:理论研究与分析
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机译:机械应力对硅和锗金属氧化物半导体器件的影响:沟道迁移率,栅极隧穿电流,阈值电压和栅极堆叠
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