机译:考虑基本算术电路的III-V TFET技术平台针对10-nm CMOS FinFET技术节点的基准测试
Univ Udine, DPIA, Via Sci 206, I-33100 Udine, Italy;
Univ Udine, DPIA, Via Sci 206, I-33100 Udine, Italy;
Univ Calabria, DIMES, Via P Bucci,41C, I-87036 Arcavacata Di Rende, CS, Italy;
Univ Udine, DPIA, Via Sci 206, I-33100 Udine, Italy;
Univ Calabria, DIMES, Via P Bucci,41C, I-87036 Arcavacata Di Rende, CS, Italy;
Univ Udine, DPIA, Via Sci 206, I-33100 Udine, Italy;
III-V; TFET; Full adders; Ripple carry adders;
机译:使用SPICE在45nm技术下基于CMOS和Finfet的电路的性能比较
机译:使用SPICE在45nm技术下基于CMOS和Finfet的电路的性能比较
机译:用于未来CMOS技术的Si和Ge pMOS FinFET的预测仿真和基准测试
机译:考虑28T全加入器的10nm CMOS技术节点III-V TFET技术平台的基准
机译:离子通量(剂量率)在10 nm节点FinFET上的源漏扩展离子注入中的作用以及在300 / 450mm平台上的影响
机译:具有嵌入式校准方案的动态pH传感器采用先进的CMOS FinFET技术
机译:基于传统CmOs和FinFET的45nm工艺的6T XOR-XNOR电路分析