机译:嵌入激光退火金NC的MOS结构的存储性能
NTUA, Sch Elect & Comp Engn, Athina, Greece;
Nottingham Trent Univ, Sch Sci & Technol, Nottingham, England;
NTUA, Sch Elect & Comp Engn, Athina, Greece;
Aristotle Univ Thessaloniki, Dept Informat, Thessaloniki, Greece;
NTUA, Sch Elect & Comp Engn, Athina, Greece;
Nottingham Trent Univ, Sch Sci & Technol, Nottingham, England;
Univ Ioannina, Dept Phys, Ioannina 45110, Greece;
Nonvolatile memory; Metal nanocrystals; Laser Annealing; Metal nanoparticles;
机译:基于嵌入SiO_2或HfO_x的共掺杂Si-NC的MIS结构中电压或电流充电脉冲偏置的存储效果比较
机译:基于SIO_2或HFO_x的COPOPED SI-NCS的MIS结构中电压或电流充电脉冲偏压的记忆效应比较
机译:MOS电容器结构中嵌入的SiSb NC的存储特性
机译:单和双nc-ITO和nc-ZnO嵌入式ZrHfO高k非易失性存储器
机译:嵌入式形状记忆合金在高温下降低复合材料的热变形和随机响应。
机译:激光辅助制备嵌入硼硅酸盐玻璃中的金纳米粒子组成的结构
机译:形成气体退火对嵌入LaAlO3高k电介质中的Ge纳米晶体存储特性的影响