机译:硅晶片上深反应离子刻蚀制备二维红外光子晶体及其光学性能
Chinese Acad Sci, Shanghai Inst Tech Phys, Natl Lab Infrared Phys, Shanghai 200083, Peoples R China;
silicon-based PCs; deep reactive ion etching; photonic band gap; transmission and reflection spectra; BAND-GAP; POLYMER; LIGHT;
机译:干法刻蚀具有InAs量子点的GaAs / AIGaAs基外延晶片中的深孔,用于制造光子晶体激光器
机译:结合反应离子束刻蚀和反应离子刻蚀在InAsP / InP膜中制造高质量因子光子晶体微腔
机译:预定非线性光学性质的二维光子晶体的设计与制作
机译:硅中深反应离子刻蚀制备二维红外光子晶体及其光学性质
机译:二维和三维光子晶体器件的制造,用于芯片级光学互连。
机译:水溶性聚乙烯醇聚合物法对晶片级化学气相沉积二维原子晶体的无PMMA蚀刻转移
机译:电感耦合等离子体刻蚀制备alGaInp / GaInp膜中的二维光子晶体