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机译:非晶态Ge2Sb2Te5的霍尔迁移率
USAF, Res Lab, Space Vehicles Directorate, Kirtland AFB, NM 87117 USA;
Univ New Mexico, Dept Phys & Astron, Albuquerque, NM 87131 USA;
Univ Utah, Dept Phys, Salt Lake City, UT 84112 USA;
disordered systems; galvanomagnetic effects; ELECTRICAL-PROPERTIES; CHALCOGENIDE GLASSES; SMALL POLARON; TRANSPORT; SYSTEM; FILMS; SIGN;
机译:通过溶胶 - 凝胶法在无定形IgZo膜中取代的N型Sn取代:霍尔迁移率的启动子,可达65厘米(2)/v
机译:霍尔效应分析非晶金属氧化物半导体薄膜晶体管中的载流子迁移率
机译:限制高霍尔迁移率的
机译:Sn掺杂剂对PICOSECOND脉冲激光照射的无定形GE2SB2Te5结晶的影响
机译:使用门控霍尔法提取InGaAs金属氧化物半导体结构中的载流子迁移率和界面陷阱密度。
机译:限制高霍尔迁移率非常薄的掺Sn的In2O3薄膜中载流子输运的因素的新见解
机译:Ge2Sb2Te5相变存储材料中的压力诱导可逆非晶化和非晶-非晶过渡
机译:非晶Ge2sb2Te5的霍尔迁移率