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机译:磁控共溅射Si(001)上生长的Mn(x)Ge(1-x)的生长和性能
Peking Univ, Inst Microelect, Novel Devices Grp, Beijing 100871, Peoples R China;
Chinese Acad Sci, Inst Semicond, Key Lab Semicond Mat Sci, Beijing 100083, Peoples R China;
magnetron sputtering; MnxGe1-x; ferromagnetism; N-TYPE GE; FERROMAGNETISM; SEMICONDUCTOR; SPINTRONICS;
机译:通过激光分子束外延在SrTiO_3(001)单晶衬底上生长La_(1-x)Sr_xMnO_(3-δ)(x = 0.2、0.3、0.45)薄膜的生长和结构特性
机译:MBE在350℃下生长的Mn_xGe_(1-x)/ Ge(001)薄膜的结构,磁和电子输运性质
机译:MBE在350℃下生长的Mn_xGe_(1-x)/ Ge(001)薄膜的结构,磁和电子输运性质
机译:射频磁控溅射在GaAs(001)上生长的Ge_(1-x)Sn_x合金的结构和光学性质
机译:Si(1-x)Ge(x)(001)气源分子束外延期间的超高B掺杂:层生长动力学,掺杂剂掺入,电激活和载流子传输的机理研究。
机译:射频磁控反应共溅射沉积CaO–CoO薄膜的两相转变法生长CaxCoO2薄膜
机译:通过RF-磁控激动腐蚀性沉积的CaO-CoO薄膜的两级相变,CaxCoO2薄膜的生长