机译:同时监控正常均值和方差的EWMA控制图的准确ARL计算
Engineering, Advanced Mask Technology Center, Dresden, Germany;
average run length; collocation; computational methods; control chart design; exponentially weighted moving average;
机译:EWMA控制图的游程长度分位数,监控正常均值或/和方差
机译:使用ARL无偏的EWMA-p控制图监视过程差异
机译:ARL无偏EWMA-RZ控制图的稳态ARL分析,可监控两个法向变量的比率
机译:用于监控使用加权方差监测偏斜群体的平均值的EWMA控制图
机译:EWMA控制图和扩展EWMA控制图
机译:使用顺序机制增强的非参数EWMA标志控制图
机译:用于监控方差 - 协方差矩阵的多变量EWMA控制图