机译:HF腐蚀对空气老化多孔硅层中表面声子声子速度的影响
机译:通过在生物应用的HF:C_2H_5OH:HCl:H_2O_2:H_2O电解质中对n〜+型硅表面进行阳极刻蚀而形成的疏水氧化多孔硅层的表征
机译:p〜+多孔硅层中表面声子的布里渊光散射研究
机译:在极稀的HF溶液中通过电化学刻蚀制备的多孔硅层的光致发光特性
机译:光电化学阳极蚀刻蚀刻时间对P型多孔硅纳米结构表面结构性能的影响
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:用金属辅助化学蚀刻形成高掺杂多孔Si层的硅衬底的形成与评价
机译:在极稀的HF溶液中通过电化学蚀刻制备的多孔硅层的光致发光特性