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Mechanism of Wafer Bonding Process

机译:晶圆键合工艺的机理

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摘要

The basic force and bonding energy in wafer bonding have been revealed in this study. The basic cause for bonding contributes to the interatomic attractive forces between surfaces or the reduction of surface energies. The amplitude of roughness component can not exceed the criterion if wafer pair is bondable. The bonding behavior and challenge during annealing have been investigated.
机译:这项研究揭示了晶片键合中的基本力和键合能。结合的基本原因促成表面之间的原子间吸引力或表面能的降低。如果晶片对可粘接,则粗糙度分量的幅度不能超过标准。已经研究了退火期间的键合行为和挑战。

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