机译:IMEC报告了高k /金属门的进展
机译:IMEC-晶圆LPC和高K /金属栅CMOS的进展
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机译:Imec简化了高k金属栅极工艺
机译:高性能块状平面20nm替代栅极high-k金属栅极技术的内在电介质堆叠可靠性以及与28nm栅极首次高k金属栅极工艺的比较
机译:具有高k栅极氧化物和金属栅极的MOS器件中的辐射响应。
机译:钩端螺旋体病伴快速进展的急性肾衰竭和共轭高胆红素血症:一例报告
机译:将高K /金属门控设备应用于高级CMOS技术的进展和挑战