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TCAD: Enables Robust Process Development

机译:TCAD:实现强大的流程开发

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摘要

A TCAD-based methodology addressing the process development and mass production stages of semiconductor manufacturing has been demonstrated. The methodology has allowed Toshiba to reduce process development cost and time. The methodology also allows the process window tornbe optimized before transferring the process to manufacturing, and the process to be efficiently recentered once in manufacturing, both of which contribute to faster ramp to yield.
机译:已经证明了基于TCAD的方法论可以解决半导体制造的工艺开发和大规模生产阶段。该方法使东芝能够减少工艺开发成本和时间。该方法还允许在将过程转移到制造之前优化过程窗口,并在制造过程中一次有效地重新调整过程,这两者都有助于更快地提高产量。

著录项

  • 来源
    《Semiconductor International》 |2009年第13期|16-18|共3页
  • 作者单位

    Toshiba Corp., Tokyo;

    Toshiba Corp., Tokyo;

  • 收录信息 美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-17 23:12:21

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