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机译:具有Al0.16Ga0.84N / GaN异质结构的金属-半导体-金属(MSM)紫外光电探测器的制造
Chonbuk Natl Univ, Coll Engn, Sch Adv Mat Engn, RCAMD, Chonju 561756, South Korea;
MOLECULAR-BEAM EPITAXY; DETECTORS; ALGAN; GAN; ALXGA1-XN; ALLOYS;
机译:具有Al_(0.16)Ga_(0.84)N / GaN异质结构的金属-半导体-金属(MSM)紫外光电探测器的制造
机译:紫外金属-半导体-金属(MSM)光电探测器在多孔GaN上的Pd肖特基接触研究
机译:MBE在MS(MSM)紫外光电探测器应用中通过MBE在Si(111)衬底上生长的AlxGa1-xN / GaN / AlN异质结构
机译:用Al_(0.16)Ga_(0.84)N / GaN异质结构的金属半导体 - 金属(MSM)UV光电探测器的制备
机译:高性能紫外线光电探测器和LED和光电探测器的单片集成在SI上生长的P-GAN / AlGaN / GaN异质结构上的LED和PhotoTopetector
机译:具有逐步梯度AlxGa1-xN缓冲层的GaN MSM UV光电探测器的选择性增强的UV-A光响应性
机译:具有阶梯级alxGa1-xN缓冲层的GaN msm UV光电探测器的选择性增强UV-a光响应性