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机译:离子束轰击和退火温度对溶胶-凝胶法氧化钇氧化铝薄膜作为液晶取向层的影响
Yonsei Univ Dept Elect & Elect Engn Informat Display Device Lab 50 Yonsei ro Seodaemun gu Seoul 120769 South Korea;
Korea Inst Ind Technol Natl Ctr Nanoproc & Equipment Cheomdangwagi ro 208beon gil Buk gu Gwangju 500480 South Korea;
Seoil Univ Dept Elect Jungnang gu Seoul 131702 South Korea;
Sol-gel; Liquid crystal alignment; Annealing temperature; Thin film; Ion-beam;
机译:离子束轰击和退火温度对溶胶-凝胶法氧化钇氧化铝薄膜作为液晶取向层的影响
机译:溶液衍生的Zn掺杂GaO薄膜作为使用离子束轰击的扭曲向列液晶显示器的取向层
机译:使用离子束辐照制备溶液衍生的Ha氧化镧薄膜及其在扭曲向列液晶显示器的对准层中的应用
机译:溶胶-凝胶衍生的铝掺杂氧化锌薄膜在不同退火温度下的电学特性
机译:层状,氮掺杂的氧化ha和氧化铝薄膜的开发和特性,可用作宽温度电容器电介质。
机译:退火温度对溶胶-凝胶三氧化钨薄膜光学带隙的影响
机译:用于液晶取向层的溶液衍生的无定形Yttrium镓氧化物薄膜
机译:Langmuir-Blodgett薄膜作为液晶取向层的研究