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Investigation f the optical and electro-optical properties of hexagonal boron nitride thin films deposited by

机译:六方氮化硼薄膜的光学和电光特性研究

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摘要

Thin films of hexagonal boron nitride (h-BN) deposited on glass-ITO substrates by a plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) process. Investigations of guiding and optical properties of films are performed by using m-lines spectroscopy. Ordinary and extraordinary refractive indices and the optical anisotropy are determined from TE and TM mode excitations. Electro-optic characterisation is performed using the guided mode angular sift tech- nique.
机译:通过等离子增强化学气相沉积(PECVD)工艺在玻璃ITO基板上沉积的六方氮化硼(h-BN)薄膜。膜的导光和光学性能的研究是使用m线光谱学进行的。普通折射率和非寻常折射率以及光学各向异性由TE和TM模式激发确定。使用引导模式角度筛选技术进行电光表征。

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