首页> 外文期刊>O Plus E >リソグラフィー用ナノインプリントモールド技術の琭状
【24h】

リソグラフィー用ナノインプリントモールド技術の琭状

机译:用于光刻的纳米压印模具技术的光刻

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

実用化が期待されているナノインプリント技術であるrnが,本格的な実用化にはモールドの製造,供給が必須でrnある。半導体リソグラフィー用,HDDのパターンドメrnディア用,LED用など,直近のターゲットでのプロセrnス開発ともに,モールド側でもまだ解決すべき課題も多rnく,開発の加速が必要である。
机译:预期将被投入实际使用的纳米压印技术rn需要制造和供应用于大规模实际应用的模具。模具方面以及半导体光刻,HDD图案化区域,LED等的最新目标靶材的开发有许多问题需要解决,因此有必要加快开发速度。

著录项

  • 来源
    《O Plus E》 |2009年第2期|170-172|共3页
  • 作者

    藤田 浩;

  • 作者单位
  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号