机译:1.5 m掠入射单色仪的绝对校准,用于等离子体源的极紫外(EUV)诊断
Department of Physics, University of Nevada Reno, Reno, NV 89557, USA;
calibration; EUV emission; xenon ionic spectra; 13.4 nm; EUV lithography;
机译:激光等离子源,用于极紫外(EUV)光刻激光等离子源,用于极紫外(EUV)光刻
机译:具有时间补偿的掠入射单色仪,用于极紫外和软X射线高次谐波
机译:用于诊断极端紫外光源产生的等离子体的集体激光汤姆森散射系统
机译:极端紫外(EUV)辐射和等离子体诊断对EUV光刻(EUVL)的致密等离子体焦点
机译:1.5 m掠入射单色仪的绝对校准,用于EUV诊断等离子体源
机译:使用极端紫外(EUV)辐射和EUV诱导的氮等离子体的聚醚醚酮(PEEK)的物理化学表面改性
机译:EUV(极端超紫色)光源研究的现状和未来4.Aser产生的等离子体光源4.1激光产生的等离子体EUV源开发
机译:用于DIII-D托卡马克的spRED(光谱仪记录扩展域)EUV(极紫外)光谱仪的绝对校准