机译:keV氩气和金簇射弹轰击的金属-绝缘体-金属薄膜隧道装置中的内部电子发射
Fakultat fur Physik, Universitat Duisburg-Essen, 47048 Duisburg, Germany;
Fakultat fur Physik, Universitat Duisburg-Essen, 47048 Duisburg, Germany;
Fakultat fur Chemie, Universitat Duisburg-Essen, 45117 Essen, Germany;
Fakultat fur Physik, Universitat Duisburg-Essen, 47048 Duisburg, Germany;
kinetic excitation; internal electron emission; kinetic electron emission; cluster bombardment; vicinage effect;
机译:来自5-20 keV氩离子轰击的金属靶的光发射
机译:薄膜隧道结对原子和离子诱导的“内部”电子发射的表征
机译:高能射弹轰击的水冰膜中离子水团簇的排放
机译:确定通过低能量(50keV,70keV或90keV)或高能量(200keV)注入的氧气形成的设备质量薄膜和标准Simox结构的最佳剂量
机译:用于毫米波检测的薄膜金属-绝缘体-金属隧道结。
机译:使用纳米金刚石的电子器件的操作分析含氮空位中心的薄膜
机译:确定通过低能量(50keV,70keV或90keV)或高能量(200keV)注入的氧气形成的设备质量薄膜和标准Simox结构的最佳剂量