机译:清洗和沉积之间连续进行的处理对通过基于等离子体的离子注入和沉积制备的类金刚石碳的附着力的影响
Univ Hyogo, 2167 Shosha, Himeji, Hyogo 6712201, Japan;
Univ Hyogo, 2167 Shosha, Himeji, Hyogo 6712201, Japan;
Diamond-like carbon; Plasma-based ion implantation and deposition; Adhesion strength; Cleaning; Consecutive processing;
机译:通过基于等离子体的离子注入和沉积使用各种源气体制备的金刚石状碳膜的表征
机译:基于等离子体离子注入和沉积混合工艺制备的DLC膜中的针孔缺陷的评估
机译:靶电压对等离子离子注入沉积法制备薄膜结构的影响
机译:脉冲等离子体基离子注入和沉积制备的DLC涂膜的粘附性
机译:通过等离子体辅助化学气相沉积制备的类金刚石碳膜的热降解和摩擦学行为。
机译:前驱体C2H2分数对磁控溅射沉积制备的含Si和Ag的非晶碳复合膜的组织和性能的影响
机译:金刚石碳沉积条件制备的凹形聚合物印刷板板磨损和印刷质量的特征
机译:等离子体源离子注入和常规离子束辅助沉积工艺沉积类金刚石碳涂层的合成与表征