...
首页> 外文期刊>Микроэлектроника >ВЫБОР ОПТИМАЛЬНЫХ ПАРАМЕТРОВ ЛАЗЕРНОГО ИЗЛУЧЕНИЯ ДЛЯ МОДЕЛИРОВАНИЯ ИОНИЗАЦИОННЫХ ЭФФЕКТОВ В КРЕМНИЕВЫХ МИКРОСХЕМАХ ОБЪЕМНОЙ ТЕХНОЛОГИИ
【24h】

ВЫБОР ОПТИМАЛЬНЫХ ПАРАМЕТРОВ ЛАЗЕРНОГО ИЗЛУЧЕНИЯ ДЛЯ МОДЕЛИРОВАНИЯ ИОНИЗАЦИОННЫХ ЭФФЕКТОВ В КРЕМНИЕВЫХ МИКРОСХЕМАХ ОБЪЕМНОЙ ТЕХНОЛОГИИ

机译:用于模拟体积技术硅微电路中电离效应的最佳激光辐射参数的选择

获取原文
获取原文并翻译 | 示例

摘要

Обоснован метод повышения эффективности использования энергии лазерного излучения (ЛИ) для создания высоких уровней эквивалентной мощности дозы, основанный на уменьшении длины волны излучения. Показано, что оптимальный диапазон энергий ЛИ для моделирования объемных ионизационных эффектов в КМОП-микросхемах, выполненных по объемной технологии, лежит в пределах от 1.08 до 0.97 мкм.
机译:证实了一种基于减少辐射波长来提高使用激光辐射能(LI)来创建高水平等效剂量率的效率的方法。结果表明,用于建模使用体积技术制造的CMOS微电路中体积电离效应的LI能量的最佳范围在1.08至0.97μm的范围内。

著录项

  • 来源
    《Микроэлектроника 》 |2014年第2期| 127-132| 共6页
  • 作者单位

    Национальный иссле(б)овамельский я(б)ерный универсимем "МИФИ" ОАО "ЭНПО Специализированные элекмронные сисмемы ";

    Национальный иссле(б)овамельский я(б)ерный универсимем "МИФИ" ОАО "ЭНПО Специализированные элекмронные сисмемы ";

    Национальный иссле(б)овамельский я(б)ерный универсимем "МИФИ" ОАО "ЭНПО Специализированные элекмронные сисмемы ";

    Национальный иссле(б)овамельский я(б)ерный универсимем "МИФИ" ОАО "ЭНПО Специализированные элекмронные сисмемы ";

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 rus
  • 中图分类
  • 关键词

相似文献

  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号