...
首页> 外文期刊>Микроэлектроника >ВЫБОР ОПТИМАЛЬНЫХ ПАРАМЕТРОВ ЛАЗЕРНОГО ИЗЛУЧЕНИЯ ДЛЯ МОДЕЛИРОВАНИЯ ОБЪЕМНЫХ ИОНИЗАЦИОННЫХ ЭФФЕКТОВ В ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ КРЕМНИЕВЫХ МИКРОСХЕМАХ
【24h】

ВЫБОР ОПТИМАЛЬНЫХ ПАРАМЕТРОВ ЛАЗЕРНОГО ИЗЛУЧЕНИЯ ДЛЯ МОДЕЛИРОВАНИЯ ОБЪЕМНЫХ ИОНИЗАЦИОННЫХ ЭФФЕКТОВ В ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ КРЕМНИЕВЫХ МИКРОСХЕМАХ

机译:模拟薄硅微粉体积电离效应的最佳激光辐射参数的选择

获取原文
获取原文并翻译 | 示例

摘要

Обоснован метод повышения эффективности использования энергии лазерного излучения (ЛИ) для создания высоких уровней эквивалентной мощности дозы, основанный на уменьшении длины волны излучения. Показано, что оптимальный диапазон энергий Л И для моделирования объемных ионизационных эффектов в КМОП-микросхемах, выполненных по технологии "кремний-на-изо-ляторе" (КНИ) и "кремний-на-сапфире" (КНС) в общем случае зависит от технологических особенностей изготовления и лежит в пределах от 0.9 до 0.75 мкм.
机译:证实了一种基于减少辐射波长来提高使用激光辐射能(LI)来创建高水平等效剂量率的效率的方法。结果表明,使用绝缘体上硅(SIC)和蓝宝石上硅(SSC)技术制成的CMOS微电路中用于建模体积电离效应的LI的最佳能量范围通常取决于技术制造特征,范围为0.9到0.75微米。

著录项

  • 来源
    《Микроэлектроника 》 |2015年第1期| 12-27| 共16页
  • 作者单位

    Национальный иссле(б)овамельский я(б)ерный универсимем 'МИФИ' ОАО 'ЭНПО Специализированные элекмронные сисмемы';

    Национальный иссле(б)овамельский я(б)ерный универсимем 'МИФИ' ОАО 'ЭНПО Специализированные элекмронные сисмемы';

    Национальный иссле(б)овамельский я(б)ерный универсимем 'МИФИ' ОАО 'ЭНПО Специализированные элекмронные сисмемы';

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 rus
  • 中图分类
  • 关键词

相似文献

  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号