首页> 外文期刊>Микроэлектроника >СОЗДАНИЕ И РАЗВИТИЕ ИОННО-ЛУЧЕВЫХ ТЕХНОЛОГИЙ
【24h】

СОЗДАНИЕ И РАЗВИТИЕ ИОННО-ЛУЧЕВЫХ ТЕХНОЛОГИЙ

机译:离子束技术的产生与发展

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
       

摘要

Представлен обзор развития отечественных ионно-лучевых технологий. Показано, что широкому применению ИЛТ способствовало: создание метода компенсации положительного объемного заряда внутри ускоряющего промежутка источника ионов отрицательным объемным зарядом электронов, удерживаемых в скрещенных электрическом и магнитном полях, что позволило повысить плотность отбираемого ионного тока в десятки раз сверх ограничений, накладываемых законом Чайльда-Ленгмюра; разработка оригинальных источников ионов с холодным катодом, формирующих пучки практически из любых соединений; создание метода реактивного ионно-лучевого травления, обладающего прецизионностью травления пучками ионов инертных газов и селективностью жидкостного травления. На основе этих достижений был разработан ряд модификаций источников ионов и технологического оборудования для применения в производстве изделий микро- и нано-электроники, оптики, пьезокварцевой техники, в медицине и других областях промышленности. Показаны пути совершенствования ИЛТ путем создания источников быстрых нейтральных частиц и технологий с их применением.
机译:介绍了国内离子束技术的发展概况。结果表明,ILT的广泛使用是通过创建一种方法来补偿的,该方法通过在交叉电场和磁场中保持的电子的负空间电荷来补偿离子源加速间隙内的正空间电荷,这使得有可能将所选离子电流的密度增加数十倍,超过Childe-Langmuir定律施加的极限。 ;利用冷阴极开发原始离子源,几乎由任何化合物形成电子束;发明了一种通过惰性气体离子束进行精确刻蚀并具有液体刻蚀选择性的反应性离子束刻蚀方法。基于这些成就,已开发出多种离子源和技术设备,可用于制造微电子和纳米电子,光学,压电石英,医药等行业。显示了通过创建快速中性粒子源和应用其技术来改善ILT的方法。

著录项

  • 来源
    《Микроэлектроника》 |2019年第6期|403-420|共18页
  • 作者

    Ю. П. Маишев;

  • 作者单位

    Физико-технологический институт им. К.А. Валиева Российской академии наук Нахимовский проспект 36 корп. 1 Москва 117218 Россия;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 05:13:04
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号