机译:金属间介电间隙多级互连的可靠性研究
机译:具有气隙结构的多层互连,用于下一代互连
机译:湿法腐蚀牺牲介电层所产生的气隙结构的评估:气隙形成的关键过程和可靠性
机译:VLSI装置中多层互连的可靠性研究
机译:金属间介电气隙的耐电迁移多层互连
机译:金属间电介质沉积和互连金属沉积过程的形貌模拟。
机译:期刊同行评审的可靠性归纳研究:等级间可靠性及其决定因素的多层次元分析
机译:用于金属间介电应用的低介电常数类聚对二甲苯-F薄膜
机译:低kappa倍半硅氧烷基金属间介电薄膜中的辐射诱导电荷俘获