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An analytical effective channel-length modulation model for velocity overshoot in submicron MOSFETs based on energy-balance formulation

机译:基于能量平衡公式的亚微米MOSFET速度过冲的有效分析沟道长度调制模型

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摘要

A compact analytical model for MOSFET channel-length modulation (CLM) based on momentum and energy-conservation of Boltzmann transport equation as well as quasi-2D formulation is presented. It is consistent with the generalized drift-diffusion formulation including the nonlocal electron temperature, which can be interpreted as being an effective CLM or effective velocity overshoot. The model has a simple familiar form of the "pinch-off" model, with one fitting parameter for the length- and bias-dependent effective saturation field and effective Early voltage. The model can be easily characterized with one measured I_(ds)-V_(ds) data and has been verified with submicron technology data for the full range of gate lengths and bias conditions.
机译:提出了一种基于Boltzmann输运方程的动量和能量守恒以及近似2D公式的紧凑型MOSFET沟道长度调制(CLM)分析模型。它与包括非局部电子温度的广义漂移扩散公式相一致,后者可以解释为有效的CLM或有效的速度超调。该模型具有“收缩”模型的一种简单熟悉的形式,其中一个拟合参数用于长度和偏置相关的有效饱和场和有效早期电压。该模型可以通过一个测得的I_(ds)-V_(ds)数据轻松表征,并已通过亚微米技术数据针对整个栅极长度和偏置条件进行了验证。

著录项

  • 来源
    《Microelectronics & Reliability》 |2002年第12期|p.1857-1864|共8页
  • 作者

    K.Y. Lim; X. Zhou;

  • 作者单位

    Chartered Semiconductor Manufacturing Ltd., 60 Woodlands, Industrial Park D, Street 2, Singapore 738406;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 一般性问题;
  • 关键词

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