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【24h】

Harnessing the base-pushout effect for ESD protection in bipolar and BiCMOS technologies

机译:利用双极和BiCMOS技术中的基极推力效应进行ESD保护

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摘要

The impact of the base-pushout or Kirk-effect on the ESD characteristic of modern radio frequency (RF) NPN transistors is investigated. Due to the RF NPNs selectively implanted collector the onset of base-pushout is shifted to ESD relevant current levels, expressing itself in a characteristically high-ohmic breakdown mode after first snapback and a non-thermal second snapback, the so-called current mode snapback. Concepts to exploit the base-pushout effect for improved RF protection schemes are presented.
机译:研究了基推效应或柯克效应对现代射频(RF)NPN晶体管的ESD特性的影响。由于RF NPN选择性地植入了集电极,因此基极推出的开始转移到ESD相关电流水平,在第一次快速恢复和第二次非热恢复(即电流模式快速恢复)后以典型的高欧姆击穿模式表示。提出了利用基推效应来改进射频保护方案的概念。

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