机译:低频噪声作为化合物半导体晶体管中的可靠性诊断工具
Laboratory IXL -CNRS -ENSEIRB-Universite Bordeaux 1 351 Cours de la Liberation, 33405 Talence Cedex, FRANCE;
机译:热载流子可靠性和低频噪声对纳米级n沟道金属氧化物半导体场效应晶体管中沟道应力的依赖性
机译:低频噪声和随机电报噪声表征对退火工艺对高k /金属栅n沟道金属氧化物半导体场效应晶体管陷阱性质的影响
机译:光电化学氧化法生长栅绝缘子的AlGaN / GaN金属氧化物半导体高电子迁移率晶体管的高频和低频噪声
机译:传导和低频噪声:低温(<600°C)多晶硅薄膜晶体管技术的诊断工具
机译:半导体纳米线晶体管中的低频噪声源和机制。
机译:均质半导体中低频噪声的性质
机译:alGaN / GaN异质结中的低频噪声场效应晶体管和金属氧化物半导体异质结构场效应晶体管
机译:用于低功率p沟道场效应晶体管的化合物半导体