机译:BiCMOS工艺中的电源轨ESD钳位的研究和验证,其泄漏电流的温度依赖性降低
Philips Semiconductors Caen, 2 rue de la girafe, France;
机译:具有二极管串ESD检测功能的电源轨ESD钳位电路,可克服40nm CMOS工艺中的栅极漏电流
机译:采用纳米CMOS技术的超低待机漏电流和高面积效率的电源轨ESD钳位电路
机译:在65nm CMOS技术中考虑栅极泄漏电流的2个VDD耐压电源轨ESD钳位电路设计
机译:65nm CMOS工艺中具有超低泄漏电流的无电阻电源轨ESD钳位电路
机译:针对泄漏温度依赖性的实时调度,可进行功率和热优化
机译:导致胞吐融合孔打开和关闭的事件具有明显不同的温度依赖性。膜片钳小鼠肥大细胞中单个融合事件的动力学分析。
机译:65-NM CMOS工艺中的新型静电触发电源轨ESD钳电路的设计