机译:CMOS技术扩展对MOSFET的影响第二次击穿:ESD鲁棒性评估
Dept. of Electrical and Computer Engineering, University of Waterloo, Waterloo, Canada N2L 3G1;
机译:先进CMOS技术中的MOSFET ESD击穿建模和参数提取
机译:内部拾取对28nm高-
机译:探索用于先进CMOS技术的保护设备中的鲁棒极限和ESD EMI影响
机译:静电放电(ESD)技术基准测试策略,用于评估CMOS技术的ESD鲁棒性
机译:用于亚22纳米节点数字CMOS逻辑技术的基于锗的量子阱沟道MOSFET的工艺集成和性能评估
机译:具有嵌入式PMOSFET的鲁棒和锁定的免疫LVTSCR器件用于28 nm CMOS过程中的ESD保护
机译:具有嵌入式PMOSFET的鲁棒和锁定的免疫LVTSCR器件,用于28 nm CMOS过程中的ESD保护