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机译:在用于射频和微波应用的AlGaN / GaN HEMT上进行了3000小时的直流寿命测试
Alcatel/Thales Ⅲ-Ⅴ lab, Route de Nozay,91461 Marcoussis Cedex, France;
机译:用于微波功率和高温应用的AlGaN / GaN / BGaN / GaN / Si HEMT的DC和RF特性优化
机译:通过针对毫米波应用的GaN缓冲器的P型掺杂,改善了AlGaN / GaN Hemt中的RF和DC性能
机译:掺Fe或无意掺杂GaN缓冲层的MOCVD在SiC上生长的AlGaN / GaN HEMT的直流和微波性能的比较
机译:在状态和离子热电子应力的3000小时后GaN / AlGan / GaN Hemts中陷阱创建的证据
机译:GaN-SiC界面处具有GaN微坑的AlGaN / GaN HEMT中的散热分析
机译:0.1μmAlGaN / GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)工艺的改进大信号模型及其在W波段实用单片微波集成电路(MMIC)设计中的应用
机译:使用新的生长技术在硅上生长的AlGaN / GaN HEMT的微波和直流性能
机译:用于估算alGaN / GaN HEmT的长期退化和寿命的寿命测试程序的模拟(postprint)