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机译:采用0.13μmCMOS技术的20V MOS晶体管的热载流子可靠性
STMicroelectronics, 850 rue Jean Monnet, 38926 Crolles Cedex, France,;
机译:热载流子引起的低复杂度0.13μmCMOS双极晶体管退化的直流电和低频噪声分析
机译:具有亚微米源漏扩散长度的0.11μm双栅氧化物CMOS技术可减少NMOS I / O晶体管因热载流子引起的退化
机译:前馈运行控制以减少CMOS逻辑中的参数晶体管偏差0.13 $ mu {rm m} $技术
机译:NLDEMOS在0.13keym SOI CMOS技术中的热载可靠性
机译:CMOS集成电路的热载流子可靠性。
机译:CMOS兼容的硅纳米线场效应晶体管生物传感器:面向商业化的技术发展
机译:采用0.13μmsiGe:C-BiCmOs技术集成LDmOs晶体管,用于高频应用
机译:采用0.25微米全耗尽sOI CmOs工艺制造的晶体管的热载流子可靠性