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机译:具有先进电容器技术的高度可靠的32 Mb FRAM的电气特性
Advanced Technology Development Team, R & D Center, Samsung Electronics Co. Ltd, San #24, Nongseo-Li, Kiheung-Eup, Yongin-Si, Kyungki-Do 449-711, Korea;
机译:使用PbTiO_3覆盖层的32Mb及以后的新型FZT电容器技术
机译:0.25μm1T1C 32Mbit FRAM的先进封装屏障层技术
机译:用于先进CMOS技术的HfO2高k薄膜MOS电容器的电性能
机译:具有先进电容器技术的高度可靠的32Mb FRAM
机译:用于薄膜电容器的聚合物样氢化碳的合成及双不同电介质对高能密度应用电容器电性能的影响
机译:更新:1940-1998年期间在电容器制造期间高度接触多氯联苯(PCB)的工人的队列死亡率研究
机译:高级技术和高度可靠的网络物理系统(HRCPS)的应用
机译:在高可靠性设备中选择和应用钽电解电容器的指南