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机译:PMOS NBTI退化的综合模型
Room 313D, Electrical Engineering Building, School of Electrical and Computer Engineering, Purdue University, 465 Northwestern Avenue, West Lafayette, IN 47907-2035, USA;
机译:PMOS NBTI退化的综合模型:最新进展
机译:用于测量pMOS阈值电压衰减的片上NBTI传感器
机译:PMOS NBTI和CHC降解期间恢复特性的新见解
机译:任意动态温度变化下NBTI诱导的PMOS降解的建模
机译:具有氧氮化物栅极电介质的p + -poly PMOSFET中的热孔退化和负偏压温度不稳定性(NBTI)增强。
机译:栅堆叠结构和工艺缺陷对32 nm工艺节点PMOSFET中NBTI可靠性的高k介电依赖性的影响
机译:siON pmOsFET的NBTI降解模拟