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Intermittent-contact scanning capacitance microscopy versus contact mode SCM applied to 2D dopant profiling

机译:间歇接触扫描电容显微镜与接触模式SCM应用于2D掺杂物分析

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摘要

This study compares two different methods of scanning capacitance microscopy (SCM). The first and approved one operates in contact mode and the second novel one in intermittent-contact (IC) mode. Measurements were performed on several samples and the results are compared. New technical expertises on the novel intermittent-contact method are shown and in conclusion assets and drawbacks of this SCM method are emphasized.
机译:这项研究比较了两种不同的扫描电容显微镜(SCM)方法。第一个和已批准的人以接触模式操作,第二个新颖的人以间歇接触(IC)模式操作。对几个样品进行了测量并比较了结果。展示了有关新型间歇接触方法的新技术专长,并总结了此SCM方法的优点和缺点。

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