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机译:反应磁控溅射沉积CN_X薄膜的电学和光学性质研究
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Wroclaw University of Technology. Janiszewskiego 11/17. 50-372 Wroclaw, Poland;
Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Wroclaw University of Technology. Janiszewskiego 11/17. 50-372 Wroclaw, Poland;
机译:氮对反应磁控溅射沉积CN_x薄膜电性能的影响
机译:反应性直流磁控溅射沉积SiC薄膜的光学,电学和微观结构性质
机译:通过反应磁控溅射沉积的薄NiO薄膜的光学和电性能和喷雾热解
机译:由反应性DC磁控溅射沉积CEO_2薄膜结构,光学和可湿性的研究
机译:通过大功率脉冲磁控溅射沉积的银膜的电学和光学性质。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:高能反应磁控溅射制备(Ti,Nb)Ox薄膜的结构,光学和电学性能研究