...
机译:通过三点弯曲和圆环测试来评估减薄工艺对硅芯片强度的影响
Universite Bordeaux 1, Laboratoire IMS, CNRS UMR 5218, ENSE1RB, Tatence 33405 Cedex, France,NXP Semiconductors, 2 Anton Philips, Caen 14000, France,IPDiA, 2 Rue de la girafe, Caen 14000, France;
Universite Bordeaux 1, Laboratoire IMS, CNRS UMR 5218, ENSE1RB, Tatence 33405 Cedex, France;
Universite Bordeaux 1, Laboratoire IMS, CNRS UMR 5218, ENSE1RB, Tatence 33405 Cedex, France;
IPDiA, 2 Rue de la girafe, Caen 14000, France;
机译:薄硅晶片激光加工模具断裂强度和热影响区的研究
机译:硅片强度测试与评估
机译:超薄硅芯片断裂强度测试中的非线性特性
机译:通过球上环微力测试和有限元分析评估薄硅芯片的断裂强度
机译:活性氮中硅的热氮化(薄介电体,等离子体处理,超大型材料,氮化硅,氧化硅)
机译:三种表面处理方式调节的硅软衬里与加工义齿基料树脂之间的拉伸粘合强度的比较评估:一项体外研究
机译:用于高芯片强度的湿化学硅晶片细化工艺
机译:增强的船用柴油机性能和部件耐久性拖船现场测试和评估(薄陶瓷涂层和高原硬化碳化硅浸渍衬垫)