机译:使用压装触点提高SiC肖特基二极管的功率循环能力
Centra Nacional de Microelectrfinica (IMB- CNM) CSIC, Campus UAB, 08193 Cerdanyola de Valles, Barcelona, Spain;
IMB-CNM (CSIC). Barcelona, Catalonia, Spain;
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机译:使用压装触点,SiC肖特基二极管的浪涌电流能力显着提高
机译:使用压力触点评估SiC肖特基二极管
机译:4H-SiC结势垒肖特基二极管在高温功率循环应力下的电热特性退化
机译:使用压力包触点,SiC肖特基二极管的浪涌电流能力显着提高
机译:SiC上的肖特基势垒二极管的设计与制造。
机译:表面态增强型动态肖特基二极管发生器具有超过1000 W m-2的极高功率密度
机译:SiC肖特基二极管的压力接触多芯片封装
机译:接触金属化和封装技术开发用于siC双极结晶体管,piN二极管和肖特基二极管,专为350°C的长期工作而设计