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Infrared Thermography application to functional and failure analysis of electron devices and circuits

机译:红外热成像技术在电子设备和电路的功能和故障分析中的应用

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摘要

In this paper the principal and more important application of Infrared Thermography are discussed. In particular the application of this experimental technique, both in its transient and steady-state mode of operation, are reported and illustrated through a broad set of experiments and examples. Functional application to the characterization of VLSI devices, application to the failure analysis of large area power devices, current monitoring in state-of-art heterojunction and organic devices prove the high potential of this technique.
机译:本文讨论了红外热成像技术的主要和更重要的应用。尤其是,通过大量的实验和示例对这种实验技术在其瞬态和稳态操作模式下的应用进行了报道和说明。在VLSI器件表征中的功能应用,在大面积功率器件的故障分析中应用,在最新技术的异质结和有机器件中进行电流监控,证明了该技术的巨大潜力。

著录项

  • 来源
    《Microelectronics & Reliability》 |2012年第10期|p.2019-2023|共5页
  • 作者

    Andrea Irace;

  • 作者单位

    Department of Biomedical, Electronic and Telecommunication Engineering, University of Naples Federico II, Naples 80125, Italy;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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