机译:漏极击穿电压:无结和反相模式p沟道MOSFET的比较
Department of Electronics Engineering, University of Incheon, #119 Academi-Ro Yoonsu-Gu, Incheon 406-772, Republic of Korea;
Department of Electronics Engineering, University of Incheon, #119 Academi-Ro Yoonsu-Gu, Incheon 406-772, Republic of Korea;
Department of Electronic Materials Engineering, Kwangwoon University, #447-1 Wolgye-Dong Nowon-Gu. Seoul, Republic of Korea;
Department of Electronic Materials Engineering, Kwangwoon University, #447-1 Wolgye-Dong Nowon-Gu. Seoul, Republic of Korea;
Department of Electronics Engineering, University of Incheon, #119 Academi-Ro Yoonsu-Gu, Incheon 406-772, Republic of Korea;
机译:电离辐射对p沟道功率MOSFET击穿电压的影响
机译:适用于具有对称和非对称双栅极结构的累积模式(无结)和反转模式MOSFET的统一分析式连续电流模型
机译:包括载流子量化效应的纳米级双栅极无结和反转模式MOSFET的建模和性能研究
机译:纳米线连接和反转模式多栅极MOSFET中的离子击穿特性的比较研究
机译:用于深亚微米技术的非升高和升高的源极/漏极p沟道MOSFET的设计,制造和表征
机译:具有位置载流子散射相关性的准弹道漏电流电荷和电容模型对纳米级对称DG MOSFET有效
机译:电离辐射对p沟道功率MOSFET击穿电压的影响
机译:具有镍合金源/漏极的基于锑化物的异质结构p沟道mOsFET。