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机译:不同几何形状的三栅极体p沟道FinFET中的漏极电流及其过大噪声
V. lashkaryov Institute of Semiconductor Physics, Prospect Nauki 45, 03028 Kiev, Ukraine;
V. lashkaryov Institute of Semiconductor Physics, Prospect Nauki 45, 03028 Kiev, Ukraine;
V. lashkaryov Institute of Semiconductor Physics, Prospect Nauki 45, 03028 Kiev, Ukraine;
V. lashkaryov Institute of Semiconductor Physics, Prospect Nauki 45, 03028 Kiev, Ukraine;
Imec, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
Imec, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium,KU Leuven, Kasteelpark Arenberg 10, B-3001 Leuven, Belgium;
机译:具有Ni1-yPty SiGe源极/漏极触点的P沟道三栅极FinFET,可增强驱动电流性能
机译:n和p沟道亚10纳米三栅极FinFET中的低频噪声评估:第二部分:测量和结果
机译:n和p沟道亚10 nm三栅极FinFET中的低频噪声评估:第一部分:理论和方法
机译:短沟道漏极扩展三栅极FinFET中的漏极电流分析
机译:取决于Fin形状和TSV以及3D集成电路中背栅噪声耦合的FinFET电性能仿真。
机译:在存在随机界面陷阱的情况下16nm栅极高κ/金属栅极体FinFET器件的电特性波动
机译:具有各种Si翅片延伸长度的P沟道FinFET的性能特征,用于源极和漏极螺栓
机译:栅极漏极几何对Gaas mEsFET电流电压特性的影响。