机译:Au / n型CuAlOx /重掺杂p型Si器件的温度相关电阻开关特性
Natl Changhua Univ Educ, Inst Photon, Changhua 500, Taiwan|Natl Changhua Univ Educ, Frontier Photon Res Ctr, Changhua 500, Taiwan;
Natl Changhua Univ Educ, Inst Photon, Changhua 500, Taiwan;
Thin films; Oxides; Defects; Resistive switching; Electrical properties;
机译:用于存储器应用的Au /并五苯/ Si-纳米线阵列/重掺杂n型Si器件的电阻切换行为
机译:用于存储器应用的Au /并五苯/ Si-纳米线阵列/重掺杂n型Si器件的电阻切换行为
机译:将五烯层插入金/聚(甲基丙烯酸甲酯)/重掺杂的P型Si /铟装置中,导致电阻切换特性的调制
机译:快速热处理增加重掺杂n型硅的电阻率
机译:磷掺杂的n型和氢掺杂的p型CVD金刚石薄膜的光电研究。
机译:通过分子掺杂(共结晶)将电荷转移特性从p型转换为n型
机译:用n型掺杂控制解决方案处理的基于HFOX的电阻切换存储器件的电阻切换行为