机译:去除PMOS设备中潜在的等离子体损伤
机译:等离子体处理 - 等离子体过程诱导损伤电子设备离子轰击损伤的特征技术
机译:单事件闩锁可能会损坏CMOS器件
机译:暴露于等离子体下的电子设备中的缺陷产生:等离子体引起的损害
机译:去除pmos设备中潜在的血浆损伤的钝化
机译:利用科学的电荷转移设备进行原子分析和成像的发展:轴向观察感应耦合等离子体,先进的空心阴极设计和潜在的指纹成像。
机译:验证修订后的患者安全措施:PMOS-30和PMOS-10
机译:由于等离子体氧氮化物PMOS器件中的界面陷阱导致迁移率降低
机译:化合物半导体器件等离子体刻蚀诱发损伤的研究。