机译:Ga_2O_3器件中隔离层和表面的稳定性和退化
Univ Padua Dept Informat Engn Padua Italy;
Natl Inst Informat & Commun Technol Tokyo 1848795 Japan;
Tokyo Univ Agr & Technol Dept Appl Chem Tokyo 1848588 Japan;
Novel Crystal Technol Inc Saitama 3501328 Japan;
Tamura Corp Saitama 3501328 Japan;
机译:有机光电器件中铟锡氧化物(ITO)/有机界面的光降解以及ITO表面处理和界面层在改善器件稳定性中的作用的新前景
机译:Anagliptin的应激降解研究,验证稳定性的发育,指示方法,降解动力学研究,鉴定和降解产物的分离
机译:Anagliptin的应激降解研究,验证稳定性的发育,指示方法,降解动力学研究,鉴定和降解产物的分离
机译:功率电子器件Ga_2O_3隔离结构的电荷俘获和降解
机译:用于生物医学和材料科学应用的微流控设备中的粘弹性不稳定性和界面表面力的操纵。
机译:硫属化物表面的化学不稳定性会影响黄铜矿装置使其远远超出表面
机译:硫属元素化物表面的化学不稳定会影响大量的核黄素装置超越表面
机译:超导载流装置的稳定性和退化