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机译:射频和直流磁控管同时溅射在不同衬底温度下沉积的ZnO / Cu / ZnO多层膜的性能
Department of Materials Science and Engineering, National Cheng Kung University, Tainan 701, Taiwan;
TCO; multilayer; sputtering; electrical and optical properties;
机译:通过脉冲直流磁控溅射以不同的溅射功率和衬底温度沉积的Ga掺杂ZnO薄膜及其性能改善潜力
机译:Al / Cu厚度比及沉积序列对RF磁控溅射制备的ZnO / Al / Cu / ZnO多层膜光电性能的影响
机译:同时进行射频和直流磁控溅射沉积的掺杂铜的ZnO薄膜的增强的光致发光性能
机译:直流磁控溅射法在不同衬底上沉积掺锂的ZnO薄膜的光学性质和表面形貌
机译:使用不平衡磁控溅射制造适用于薄膜晶体管的掺镓ZNO薄膜。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:各种衬底温度对RF磁控溅射沉积的ZnO薄膜结构和电性能的依赖性
机译:温度,生长动力学和基底对RF轴外溅射沉积YBa(sub 2)Cu(sub 3)O(sub 7)薄膜微观结构的影响