机译:使用具有Hmds的Cvd沉积在Al缓冲层上的多晶3c-sic薄膜的拉曼散射
School of Electrical Engineering, University of Ulsan, San 29, Mugerdong, Namgu, Ulsan 680-749, Republic of Korea;
aln; poly 3c-sic; raman scattering; hmds;
机译:在多晶3C-SiC缓冲层上生长的AlN薄膜的表面声波特性
机译:六甲基乙硅烷的APCVD法在SiO_2上沉积多晶3C-SiC薄膜的拉曼散射研究
机译:沉积在缓冲层上的Ag掺杂ZnO薄膜的微观结构和拉曼散射
机译:使用3C-SiC缓冲层沉积在Si上的AlN薄膜的结构特性
机译:使用叔丁醇ha(IV)通过CVD和PECVD沉积的固态晶体管栅极应用的based基高k薄膜的特性表征。
机译:直流磁控溅射性能的改进含保留Ar原子的Al掺杂ZnO多晶膜10nm厚的缓冲层
机译:用于M / NEMS应用的3C-SiC缓冲层上沉积多晶AlN薄膜的特征