机译:评估片上互连中温度梯度和电流不均匀性的影响
Dipartimento di Elettronica e Informazione, Polkecnico di Milano, P.zza Leonardo da Vinci 32,1-20133 Milano, Italy;
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electro-thermal model; on-chip interconnect; current nonuniformity; propagation delay;
机译:应力和温度梯度对电流和机械应力驱动的金属互连中空隙演化的影响
机译:具有高达80 GHz的片内互连电流返回路径效应的等效电路模型
机译:全局ULSI互连上基板温度不均匀影响的建模和分析
机译:电流拥挤和电流密度梯度对BEOL铜互连中电迁移的内在研究
机译:纳米技术中电流模式片上互连信号的设计和集成。
机译:温度梯度下Cu / Sn / Cu互连中液-固界面处Cu6Sn5金属间化合物的生长动力学
机译:全局ULSI互连上基板温度不均匀影响的建模和分析