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机译:夹在Al_(0.1)in_(0.9)sb层之间的Inas_(0.1)sb_(0.9)薄层的传输性质和量子霍耳效应的观察
Asahikasei Corporation, 2-1, Samejima, Fuji-city, Shizuoka 416-8501, Japan;
insb; inassb; quantum well; hall effect; quantum hall effect; magnetic sensor; hall element;
机译:分子束外延生长夹在Al_(0.1)In_(0.9)Sb层之间的InSb和InAs_(0.1)Sb_(0.9)薄膜的传输性质
机译:Al_(0.1)In_(0.9)Sb / InAs_(0.1)Sb_(0.9)量子阱中的量子输运和自旋轨道相互作用
机译:具有Al_(0.9)Ga_(0.2)As_(0.1)Sb_(0.9)势垒层的中红外InAs_(0.79)Sb_(0.21)基nBn光电探测器,以及与InAs_(0.87)Sb_(0.13)引脚二极管的比较使用界面失配阵列在GaAs上生长
机译:通过分子束外延在GaAs(100)基材上生长的Al_(0.1)In_(0.1)IN_(0.9)的IN_(0.9)SB绝缘层的性质
机译:InAsBi体层和量子阱中分子束外延生长的结构和光学性质
机译:Pt / Bi0.9La0.1FeO3双层中霍尔效应的电控制
机译:双枪RF磁控溅射的Pb(Zr0.9Ti0.1)O3 / Pb(Zr0.1Ti0.9)O3多层薄膜的制备及电性能
机译:Ce0.9Gd0.1O2-x和Ce0.9Gd0.1O2-x + al2O3复合材料的力学性能。