机译:用于平面,按比例缩放的CMOS集成电路的高k栅极堆叠
International SEMATECH, Inc., Austin, TX 78741, USA;
high-k; HfO_2; electron mobility; process integration; noore's law;
机译:纳米级CMOS器件的高k栅堆叠中的击穿
机译:热处理和等离子处理,用于改进(小于)1 nm等效氧化物厚度的平面和基于FinFET的替代金属栅极高k后器件,并支持简化的可扩展CMOS集成方案
机译:规模化CMOS技术中金属栅极/高k晶体管的器件与电路之间的可靠性关联
机译:将高k栅堆叠系统集成到平面CMOS工艺流程中
机译:研究将Ⅲ族元素(镧,gate 、,和铝)掺入用于高级CMOS应用的金属栅/高k堆栈中的方法。
机译:用于片上温度监控的CMOS-SOI集成温度感测电路的研究
机译:用于CMOS高K栅堆叠缩放的硅上氧化锶层表征