机译:化学溶液沉积法在SrTiO_3衬底上异质外延生长Pb(Mg_(1/3)Ta_(2/3))O_3薄膜:微观结构演变
Photonic and Electronic Thin Film Laboratory, Department of Materials Science and Engineering, Chonnam National University, 300 Yongbong-Dong, Puk-Gu, Kwangju 500-757, South Korea;
Pb(Mg_(1/3)Ta_(2/3))O_3 (PMT); relaxor ferroelectric; perovskite phase; epitaxial growth;
机译:以Ba(Mg_(1/3)Ta_(2/3))O_3为缓冲层的Si衬底上Pb(Zr,Ti)O_3薄膜的低温沉积
机译:使用化学溶液在SrRuO_3 / SrTiO_3衬底上外延生长PbZr_0.5ti_0.5O_3薄膜沉积:微观结构和铁电性能
机译:化学溶液沉积法制备Pb(Mg_(1/3)Nb_(2/3))O_3(50%)-PbTiO_3(50%)薄膜的电和机电性能
机译:使用化学溶液沉积法(001)Laalo_3上的PBTIO_3薄膜的所外延生长
机译:通过热壁化学气相沉积法生长的同质外延4H-碳化硅(1120)薄膜的界面上的多型稳定性,微观结构演变和杂质
机译:从溶液中生长氢化锂薄膜:向溶液原子层沉积锂化薄膜
机译:初始生长行为及其微观结构特征 蓝宝石(0001)衬底上的异质外延ZnO薄膜