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机译:使用逐元素图案化印章的分步重复UV纳米压印光刻工艺
Department of Intelligent Precision Machine, Korea Institute of Machinery and Materials, 171 Jang-dong, Yuseong-gu, Daejeon 305343, Republic of Korea;
ultraviolet-nanoimprint lithography; step-and-repeat; large-area stamp; elementwise patterned stamp;
机译:使用元素图案化的图章进行UV-纳米压印光刻
机译:适用于晶圆级相机应用的高精度UV-纳米压印光刻分步重复主印章制造
机译:借助紫外线纳米压印光刻技术使用双层软圆柱印章进行纳米级图案化
机译:UV-纳米压印光刻中亚100 nm的图案化工艺和附着力模拟
机译:利用基于图像的格式,以优化模式数据格式和掩模和掩模模式生成光刻的处理
机译:通过软紫外-纳米压印光刻技术对图案化的Al薄膜进行退火处理大规模制造纳米图案化的蓝宝石衬底
机译:基于大面积印记的紫外纳米压印光刻中衬底变形的影响
机译:使用分步重复光刻系统制造硅条检测器