机译:用扫描探针显微镜表征铜后CMP表面:第二部分:用扫描开尔文探针力显微镜测量表面电势
Freescale Semiconductor, Crolles2 Alliance, 870 Rue Jean Monnet. 38926 Crolles, France;
chemical mechanical polishing (CMP); post-CMP cleaning; atomic force microscopy;
机译:用扫描探针显微镜表征铜后CMP表面-第1部分:使用导电原子力显微镜进行表面泄漏测量
机译:腐蚀科学中的高分辨率开尔文探针显微镜:扫描开尔文探针力显微镜(SKPFM)与经典扫描开尔文探针(SKP)
机译:通过扫描力显微镜和涂有蛋白质的探针对探针表面的粘附测量,识别在表面上的蛋白质吸附
机译:扫描Kelvin探针力显微镜和俄歇电子能谱研究被动表面
机译:用扫描力显微镜和和频振动光谱法探测聚合物表面的结构和纳米级机械性能。
机译:扫描电化学显微镜-原子力显微镜(SECM-AFM)探针的制备以纳米级成像表面形貌和反应性
机译:Kelvin力显微镜的表面电位测量的现状。超高真空扫描探针显微镜的原子级潜在成像。