机译:电子束光刻单膜模板掩模的图形依赖图像放置分析
Dai Nippon Printing Co., Ltd., Kashiwa-shi 277-0871, Japan;
electron-beam lithography; stencil mask; membrane distortion; image placement; finite element method; anisotropy;
机译:用于低能电子束投影光刻的亚50 nm模板掩模
机译:带有遮光边框的薄吸收剂极紫外光刻掩模,适用于全视场扫描仪:掩模工艺会改变平整度和图像放置
机译:带有遮光边框的薄吸收剂极紫外光刻掩模,适用于全视场扫描仪:掩模工艺会改变平整度和图像放置
机译:用于电子束光刻的单膜模板面罩的图像放置精度
机译:利用基于图像的格式,以优化模式数据格式和掩模和掩模模式生成光刻的处理
机译:基于纳米级聚合物荫罩的模板纳米光刻技术:走向有机纳米电子学
机译:基于纳米级聚合物阴影掩模的模板纳米光刻:走向有机纳米电子学
机译:使用模板掩模的带掩模离子束光刻的线宽控制